这条博文的出现，已经不是爆火那么简单了。

在发出的那刻，周天王和邓梓琪工作室立马转发，带了数百万的浏览量。

霎时间。

各家的粉丝疯狂了。

[草莓果酱]：“不是！这不会是画饼的吧？@龙兴科技陈星，陈总你告诉我这是不是真的？流水线的工人也能去参加年会？”

[夺命魂淡哥]：“我现在离职还来得及吗？主要是想体验打螺丝的快感了，绝对不是抢不到周天王的演唱会门票才出此下策。”

[王不留行]：“我们家老板：好好干，我争取明年换台车。别人家老板：举办演唱会，给全体员工发隐藏福利。妈的，人与人差距怎么这么大啊？”

在彻底官宣周天王、邓梓琪会出席龙兴科技年会后，陈星还是太小看了明星效应。

此时的热搜榜，《别人家的公司，别人家的老板》词条被顶上了三榜第一名。

不仅上了社会要闻榜，连娱乐八卦榜都占据了，总榜自然也不用说，断层领先的第一名。

谁也不会想到，龙兴科技福利居然这么好。

其他公司还在画饼，教育员工的时候，人家已经把当红歌星请来演唱了，相当于每个人省下两张演唱会门票的钱。

《入职龙兴科技全流程》的词条也被顶到热榜第二名，可见吃瓜网友对于龙兴科技的这番操作感到有多么震撼。

远在莞城的蓝绿厂总部，段勇平和陈永在看见热搜后，也不得不为陈星竖起拇指，这招“招工启事”实在太精妙了。

这属于是什么？

精准定位年轻用户群体！

他已经能想象到，过完今年这个春节，明年开春的龙兴科技工厂要被求职者挤爆。

而且这些求职者的年龄，绝大部分都可能在三十岁以下，熬夜能力那是杠杠的。

……

在龙兴a系列和龙兴科技年会相继冲上热搜时，陈星却没有时间去查看微博。

因为此时的他，正处于腾飞工业园的龙兴硅业工厂内，听着杨烈介绍16寸硅片。

就在十五分钟前，他本来想着回趟龙兴科技公司，把鸿蒙数据u盘锁进保险箱，明天亲自给工厂端送过去。

可没想到！

龙兴工业端接连报喜。

先是金色品质硅棒提拉人才杨烈发微信，告诉他16寸半导体硅片已经顺利产出。

紧接着是金色品质arf光刻胶人才朱明月宣布，成功攻克n40nm-7nm ptd c/h7技术节点的arf光刻胶。

这什么概念？

这意味着，半导体硅片和光刻胶同时迈向了最前沿。

一米八，接近一米九的壮汉杨烈此时拿着16寸半导体硅片，兴致勃勃地介绍道：

“16寸的半导体硅片相比较于12寸大了4寸，直径达到了40cm，假设切割的芯片裸片尺寸是1.6x1.6cm，那么它一共可以切出475枚芯片裸片，比12寸半导体硅片多了243枚。”

多出243枚什么概念？

陈星曾经可是了解过的，无论是6寸、8寸还是12寸半导体硅片，它们的生产步骤完全相同。

同样的提纯，同样的掺杂，同样的提拉，同样的打磨……

这也就是说，在成本几乎相同的情况下，龙兴硅业生产的16寸半导体硅片能比市面上的12寸半导体硅片多产出243枚。

“还有一点！”

在陈星内心掀起骇浪时，杨烈继续说道：“韩铭还改良了提纯工艺，这批次的半导体硅片纯净度达到了15n！”

“嘶！”

15n？？？

陈星不由得倒吸一口凉气，这已经完全出乎他预料了。

15n的纯度，如果翻译成百分比就是99.9999999999999%，足足15个9，要知道，每个9的出现都代表里面的杂质进一步减少，而目前市面上主流的硅片，它们纯度只能达到11n，也就是11个9。

在沉思过后，陈星看向杨烈道：“16寸半导体硅片向莞城那边供应了吗？”

“还没有。”

杨烈刚说完，又补充道：“刚刚做好就给你微信了，我们只提供了15n的12寸半导体硅片。”

闻言，陈星点了点头，随即叮嘱道：“16寸硅片的事情不能泄露出去，目前还是以12寸硅片生产为主，现在还不是摊牌的时候，知道的人越多，越容易走漏风声。”

“我明白了。”

杨烈点了点头。

在叮嘱完杨烈韩铭，以及龙兴硅业的其他人才后，陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。

化工厂不同于硅业工厂，这里弥漫着刺鼻的味道。

破解光刻胶，以及配套试剂应有的成分，这对于科研工程师来说只能不断尝试。

早早在门口等待的朱明月见陈星到来，立马递上过滤口罩道：“总裁快请进。”

陈星接过口罩戴上，便跟随他走进化工厂。

化工厂真不比硅业工厂，刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿，全是化学试剂的刺鼻味。

在穿过调配区，朱明月带陈星来到了他的办公室，关上房门并打开过滤抽风机。

不一会。

两人都摘下了口罩。

朱明月从办公室保险箱，拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道：

“1号arf光刻胶，曝光波长：193nm imm，技术节点及应用：n40nm-7nm ptd l/s，工艺能力cd：0.063um，工艺能力thk：0.16-0.24um。”

“翻译一下。”

虽然陈星是重生者，又带有国产之光系统，但这并不代表他是万能的，光刻胶他可没学过。

朱明月闻言，淡淡一笑解释道：“曝光波长193纳米，说明它支持193深紫外光，也就是duv光刻机的曝光，技术节点及应用n40纳米-7纳米 ptd l/s，可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”

“工艺能力cd：0.063um是分辨率，而工艺能力thk：0.16-0.24um则是涂抹厚度。”

陈星理解能力很强，在听了讲解以后，立马抓住重点道：“也就是说，这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶？”

“是的。”

朱明月点了点头，继续抛出这款光刻胶的底细道：“因为考虑到我们没有euv光源，所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”

(本章完)